氣態分子污染物(AMC)已經成為影響半導體產品質量的重要因素，主要表現為表面分子污染，這是由氣態分子和特定表面作用而形成非常薄的化學膜，化學膜通常改變產品表面的物理、電子、化學和光學特性而導致質量缺陷，造成產品良品率下降。

AMC種類復雜，根據SEMI發布的標準中將AMC分為四類:1.酸性分子污染物：如HF、SO2、CL2等;2.堿性分子污染物：如NH3等;3.有機化合物：如SiH4，碳氫化合物等;4.摻雜物：如磷（P)、硼(B）等。

AMC可能來源于無塵室外的汽車排氣、大氣臭氧、工廠排放等，或是潔凈室內的化學溶劑揮發、蝕刻酸氣、塑料制品溢散等，由于來源非常廣泛，污染物種類繁多，因此如何進行有效防控已經成為行業的一大難題。 
考慮到內部和外部AMC污染源的濃度，半導體行業控制AMC需要從多方面來進行。首先對生產環境進行評估，確定環境中的氣態污染物種類和污染程度，然后定制污染控制方案，在新風處理機組（MAU）和風機過濾單元（FFU）上安裝化學過濾器，達到多重去除AMC的效果，為了實時掌握AMC含量濃度，還需搭建AMC化學污染物在線監測系統，進行實時監測。

AMC化學污染物在線監測系統

半導體行業AMC控制是一項重要且復雜的任務，除了以上的控制措施，還應加強生產設備的維護和清潔，定期檢查和更換可能引起AMC污染的部件，提高對AMC控制的認識、了解AMC的影響，知道如何正確操作和維護設備以減少AMC污染的可能性。此外，建立規范的操作流程和標準，確保每個生產步驟都符合AMC控制的要求，來有效降低AMC的濃度，保證半導體制造過程的穩定性和產品質量的可靠性。

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